Mesin pelapis sputtering magnetron inline terutama DC (atau MF) pelapis sputtering magnetron dapat disesuaikan dengan berbagai target, seperti: tembaga, titanium, kromium, baja tahan karat, nikel, dan bahan logam lainnya yang dapat dilapisi menggunakan proses sputtering dapat meningkatkan adhesi film, reproduktifitas, densitas, keseragaman dan karakteristik lainnya.
- sebuah.Karakteristik dan parameter dasar
- b.struktur garis horizontal dapat diwujudkan secara bersamaan dilapisi di satu sisi
- c.efisiensi produksi, kecepatan tercepat hingga 1 mnt/beat
- d.desain modular, perawatan mudah
- e.kematangan proses pelapisan, hasil tinggi
- f.Katoda sputtering magnetron DC dapat bervariasi tergantung pada kebutuhan pelanggan
- g.sistem vakum terdiri dari pompa mekanik, pompa Akar, pompa difusi (pompa molekuler) Komposisi
- h.Ukuran tubuh garis dapat bervariasi tergantung pada kebutuhan pelanggan